納米壓印技術簡介
Nanoimprinting Technology (NIL) 納米壓印技術是制備納米尺度圖案的一種方法。這種方法工藝簡單，成本低廉，可大規模生產，且生產出來的圖案具有很高的分辨率。在這里，納米尺度的圖案是由壓印模具壓印光刻膠再加上后續的工藝步驟制備形成的。光刻膠一般由單分子或聚合物構成，且固化方式為熱固化或紫外固化。壓印模具與光刻膠之間的粘附力需要被精確控制以獲得最合適的壓印效果。
NIL技術廣泛應用于電子學、光子學、光電子學和生物等領域。在電子學領域，NIL技術已經被用來制備場效應管（MOSFET），有機薄膜晶體管（O-TFT）和單電子存儲器等；在光子學和光電子學領域，NIL技術在亞波長的共振光柵過濾器，偏振鏡，波片，抗反射結構，光子集成電路以及等離子器件等方面都有深入的研究和應用。另外，Sub-10 nm的微流控通道被用于DNA的拉伸試驗就是由NIL技術制備而成的。近來，NIL技術被用來縮小生物分子排序器件的尺寸使得排序的量級更小，更有效。
NIL技術最大的優點是其工藝簡單。與芯片制造相關聯的一個最大成本是用于印刷電路圖案的光刻工具。光學光刻技術需要高功率紫外線激光和大量的精密透鏡來實現納米級的分辨率。而NIL技術不需要復雜的光學系統和高功率的激光源，也不需要根據給定分辨率和波長的靈敏度來設計合適的光刻膠。因此，該技術的簡化要求造就了其成本的低廉。
NIL技術是一種固有的三維圖案化技術。壓印模具可以由多層垂直堆疊的方法來制備。兩層結構的復制只需要一個壓印步驟，這使得芯片制造商可以降低芯片制造成本，提高產品的生產量。如上所述，納米壓印材料不需要調成為對給定波長的光具有高的分辨率和靈敏度。因此，更大范圍的不同性能的材料都可以應用在納米壓印技術中。這種增加了的材料可變性，給化學家們提供的更自由的空間去設計新功能材料，而不是犧牲抗腐蝕性的聚合物材料。一種功能材料也許可以直接通過納米壓印在芯片上形成圖案而不需要放在下面的轉移層材料。成功的使用一種新型功能材料可以有效的降低生產成本，并通過減少許多困難的制造工藝來提高生產能力。
一. 納米壓印膠：
1、產品簡介
UV-NIL photoresist為自主研發，是自主研發環境友好型紫外納米壓印膠。可根據客戶需要，訂制指定厚度（3500rpm）的納米壓印膠（厚度偏差±10nm）， 厚度100-1000nm。
2、產品技術特點
1、低粘度紫外納米壓印用光刻膠，≤50mPa·s；
2、壓印結構精度高，≤15nm；
3、可實現高深寬比結構材料壓印(3:1);
4、適用于藍寶石、石英、硅、鎳、PDMS、以及聚合物復合壓印模板材料;
5、適用于藍寶石、石英、硅、鎳、PDMS、GaAs、InP、GaN、Ti、Au、PE等多種基底材料；
6、有機無機混合材料，提高了壓印膠的抗刻蝕性；
7、可在常規條件下實現快速固化，無須真空無氧環境；
8、低壓壓印工藝過程，調節工藝條件殘余層厚度可控制在10nm以下。
二、模具防粘處理試劑：
5g/10g包裝
三. 納米壓印模板
1.常規模板制作
根據客戶要求定制模板（Si/Quartz），襯底大小可選，圖形最大可至6inch，周期最低50nm，可靈活設計多種模板。所有模板均可進行抗粘附處理。
這種納米柱模具可以應用在光子晶體和納米模具領域，以及很多潛在的領域：
磁性納米結構
LED光抽取層，光伏圖形化
晶體生長模板
納米壓印工藝開發
光子/等離子體結構
生物納米技術
2.軟模板/復合模板加工
擁有軟模/復合模板復制技術，可根據客戶要求訂做相應規格的PDMS，PDMS復合（PET、PC）壓印模板。
四、軟膜制作材料
硬模板制作PDMS軟模板材料， 產品分為：UV型快速制作型和熱固化型。
