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無氟紫外光輔助刻蝕多層Mo2C
產(chǎn)品信息
名稱：紫外光輔助刻蝕多層Mo2CTx
尺寸：1-5um
層數(shù):10-20層
產(chǎn)品性能：高純度優(yōu)良的電化學性能
官能團：-OH-F-O-Cl（可定制）
純度： 99%
儲存條件：常溫干燥
工藝：冷凍干燥
具體細節(jié)：新型紫外光輔助選擇性刻蝕方法，可以將Mo2Ga2C前驅(qū)體中的Ga原子刻蝕，進而得到無氟的Mo2C MXene，并且避免了對毒性高腐蝕性酸的使用。得到的MXene展現(xiàn)出了獨特的2D石墨烯狀的結(jié)構(gòu)以及較高的純度。當其作為可充電電池的負極材料時，展現(xiàn)出了杰出的倍率性能與循環(huán)穩(wěn)定性，儲鋰容量可以穩(wěn)定在在150 mAh g-1左右，而儲鈉則可以穩(wěn)定在50 mAh g-1左右。此外，柔性的Mo2CMXene基電池具有杰出的容量保留率（89%和74%）。因此， 這種MXene展示出了在離子存儲應用中的巨大潛力，以及這種綠色的合成方法可以擴展其他MXene的合成思路，極具參考意義。
應用領(lǐng)域：儲能、催化、分析化學、力學、吸附、生物、微電子、傳感器等
尺寸工藝均可定制
價格：1900元/500毫克，3750元/克
jc@www.ceopr.com.cn
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